特許
J-GLOBAL ID：200903091998301123
ガラスマスク並びに該ガラスマスクを使用した半導体装置の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-333571
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165195
出願日： 1991年12月17日
公開日（公表日）： 1993年06月29日
要約：
【要約】【目的】複数のレチクルを使いフォトレジストを順次露光させて一つの配線層の全配線パターンのレジストマスクを形成する半導体装置の製造方法において、レチクル相互間の位置ずれが起こらないガラスマスク、及び該ガラスマスクを使用し前記レジストマスクのパターンを構成するスペースの幅の縮小化を可能とする半導体装置の製造方法を提供することである。【構成】第1のレチクル73と第2のレチクル74が形成されているガラスマスクを露光装置に取り付ける。そして、第1のレチクル73によりフォトレジスト40を露光する。次にフォトレジスト40が形成されている半導体基板10を露光装置のX-Yステージを使って移動させ、第2のレチクルによりフォトレジスト40を露光する。この後、フォトレジスト40を現像してレジストマスク80を形成する。
請求項（抜粋）：
1枚のガラス基板に複数のレチクル領域を設け、半導体基板の1つのチップ領域に形成すべきパターンを少なくとも2つの部分パターンに分解し、分解した各部分パターンそれぞれを遮光材によって上記ガラス基板の各レチクル領域に形成したことを特徴とするガラスマスク。
IPC (2件)：
引用特許：
前のページに戻る
