特許
J-GLOBAL ID：200903092001025934
磁性膜の製法および薄膜磁気ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-121223
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333770
出願日： 1993年05月24日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 磁性膜に付与される磁化容易軸における磁界の大きさを簡単なプロセスで制御する方法を実現することにより、薄膜磁気ヘッド設計の自由度を広げることができるとともに、製造プロセスを簡略化できるため、生産性の向上をはかることのできる磁気ヘッド用磁性膜の製法を提供する。【構成】 第1の一軸異方性磁界5と第2の一軸異方性磁界8を付与するために熱処理時に印加する直流静磁界6とのなす角度のみをパラメータとして変化させることにより最終的な磁化容易軸9の方向の一軸異方性磁界の大きさを制御するようにする。
請求項（抜粋）：
一軸磁気異方性を有する磁性膜の製法であって、磁性膜の面内方向のうちある一方向に第1の一軸異方性磁界を付与し、ついで第1の一軸異方性磁界の方向とは異なる方向に熱処理用直流磁界を加えながら前記磁性膜の熱処理を行い、そののち該熱処理用直流磁界方向またはその近傍の方向が最終的な膜の磁化容易軸方向となるように第2の一軸異方性磁界を付与するとともに、前記熱処理用直流静磁界の方向を変えることにより、第2の一軸異方性磁界の大きさを制御することを特徴とする磁性膜の製法。
IPC (4件)：
H01F 41/22
, C23C 14/34
, G11B 5/31
, H01F 10/16
