特許
J-GLOBAL ID:200903092003680433

位相差板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-352743
公開番号(公開出願番号):特開2005-115281
出願日: 2003年10月10日
公開日(公表日): 2005年04月28日
要約:
【課題】 薄型で外観欠点がなく高機能な位相差板を製造できる製造方法を提供する。 【解決手段】 まず、図1Aに示すように、透明基材1の上に、液晶性化合物の溶液を塗布し乾燥させるか、または、溶融した液晶性化合物を塗布することにより、液晶性化合物含有層2aを形成させる。そして、図1Bに示すように、液晶性化合物含有層2aを液晶化または液化させて溶融した層2bとし、その上に配向基板3を接触させ、前記液晶性化合物を特定の方向に配向させる。そして、前記液晶性化合物を特定の方向に配向させた後、図1Cに示すように、溶融した液晶性化合物含有層2bを固体化させ、配向基板3を除去し、透明基材1と光学的異方性層2cとからなる位相差板4を製造する。チルト角を持つ位相差板は光学補償において重要であるが、本発明によれば、液晶チルト配向能を有する配向基板を用いることにより製造できる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
透明基材の上に光学的異方性層が形成された位相差板の製造方法であって、下記(1)〜(4)の工程を含むことを特徴とする製造方法。 (1) 液晶配向能を有さない前記透明基材上に、液晶性化合物含有層を形成する工程。 (2) 前記液晶性化合物含有層に、液晶チルト配向能を有する配向基板を接触させ、前記層の液晶性化合物を配向させる工程。 (3) 前記層の液晶性化合物の前記配向状態を固定化して光学的異方性層を形成する工程。 (4) 前記配向基板を除去する工程。
IPC (2件):
G02B5/30 ,  G02F1/13
FI (2件):
G02B5/30 ,  G02F1/13 505
Fターム (18件):
2H049BA04 ,  2H049BA06 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB45 ,  2H049BB46 ,  2H049BB48 ,  2H049BB49 ,  2H049BC02 ,  2H049BC09 ,  2H049BC14 ,  2H049BC22 ,  2H088EA47 ,  2H088GA06 ,  2H088HA03 ,  2H088MA04 ,  2H088MA16 ,  2H088MA18
引用特許:
出願人引用 (7件)
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