特許

J-GLOBAL ID：200903092019580587

塗布装置及び塗布方法

発明者： 寺内 健一 ,  木瀬 一夫
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-131976
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328510
出願日： 1994年06月14日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】 レジストが不用意に落下して基板や装置を汚染することがない塗布装置を提供すること。【構成】 レジスト液を吐出するスリットノズル14に形成されたスリット14bを下向きかつ水平に保った状態で、このスリット14bからその下方に支持されたガラス基板16の表面に向けてレジスト液を吐出させてガラス基板16表面にレジスト液を供給する。レジスト液の塗布に際して、スリットノズル14のスリット14bを上向状態として、このスリットノズル14内の塗布液に混入しているエアをこのスリット14bから排出させる。したがって、このエアの混入に起因して生ずるレジスト液の不用意な落下の発生を有効に防止でき、ガラス基板表面に塗布されるレジスト液の層に不均一が生じたり、レジスト液が周囲に飛散してパーティクルの原因となったりする事態を防止できる。

請求項（抜粋）：

所定の塗布液を吐出するノズルに形成されたスリットを前記ノズルの下方に支持された基板の表面に向け、前記スリットから塗布液を吐出させて、基板表面に塗布液を供給する塗布装置において、前記ノズルのスリットを上向状態として、このノズル内の塗布液に混入しているエアをこのスリットから排出させるエア排出手段を備えることを特徴とする塗布装置。

IPC (3件)：

B05C 5/02 ,  B05D 1/26 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-140670
  
• 特開平4-305270
  
• 特開昭62-140670
  
• 特開平4-305270