特許

J-GLOBAL ID：200903092023657128

基板洗浄方法および基板洗浄装置

発明者： 西村 讓一 ,  森田 彰彦 ,  影山 貴浩
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-026331
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223597
出願日： 1997年02月10日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】 基板の洗浄面全面を均一に洗浄し、基板への損傷を抑制する。【解決手段】 基板を保持して鉛直方向の軸芯J周りに回転させながら、所定の押圧力で洗浄ブラシを基板表面に作用させた状態で、洗浄ブラシを基板表面に沿わせて水平移動させる工程を含んで基板を洗浄する際、洗浄ブラシの基板表面上の位置を監視し、その洗浄ブラシの位置に応じて、各位置で好適な押圧力となるように基板表面に対する洗浄ブラシの押圧力を変化させて基板を洗浄する。押圧力の変化は、洗浄ブラシを基板表面の回転中心Jから外周部G(G1、G2)に移動させる際には、その移動に従って押圧力を大きくしていくように変化させ、逆に外周部G(G1、G2)から回転中心Jに移動させる際には、その移動に従って押圧力を小さくしていくように変化させる。

請求項（抜粋）：

基板を保持して鉛直方向の軸芯周りで回転させながら、所定の押圧力で洗浄具を基板の洗浄面に作用させた状態で、洗浄具を基板の洗浄面に沿わせて水平移動させる工程を含んで基板を洗浄する基板洗浄方法において、基板洗浄中の前記洗浄具の基板洗浄面上の位置を監視し、その洗浄具の位置に応じて、基板の洗浄面に対する洗浄具の押圧力を変化させて基板を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 1/04

FI (3件)：

H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 B ,  B08B 1/04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ウエハ洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-347410   出願人：株式会社リコー
• 回転式基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-059837   出願人：大日本スクリーン製造株式会社