特許

J-GLOBAL ID：200903092025351476

処理液供給装置

発明者： 當間 安夫 ,  原野 理一郎 ,  吉野 精宏 ,  亘 徹
出願人/特許権者： 株式会社スプラウト
代理人 (1件)： 中村 稔 (外10名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-252396
公開番号（公開出願番号）：特開2003-053214
出願日： 2001年08月23日
公開日（公表日）： 2003年02月25日
要約：

【要約】【課題】 処理液の垂れ防止機能を向上させた処理液供給装置を提供する。【解決手段】 処理液を下方に供給するための下向き出口開口(2,4)を有する処理液供給管路(10,12)と、この処理液供給管路(10,12)を下向き出口開口(2,4)の上流で開閉する供給管路開閉手段(14,16)と、を有する処理液供給装置(1)において、下向き出口開口(2,4)の周長は、供給管路開閉手段(14,16)が処理液供給管路(10,12)を閉じたとき、供給管路開閉手段(14,16)と下向き出口開口(2,4)との間の処理液を表面張力によって保持するのに十分な長さを有している。

請求項（抜粋）：

処理液を下方に供給するための下向き出口開口を有する処理液供給管路と、この処理液供給管路を前記下向き出口開口の上流で開閉する供給管路開閉手段と、を有する処理液供給装置において、前記下向き出口開口の周長は、前記供給管路開閉手段が前記処理液供給管路を閉じたとき、前記供給管路開閉手段と前記下向き出口開口との間の処理液を表面張力によって保持するのに十分な長さを有していることを特徴とする処理液供給装置。

IPC (5件)：

B05B 1/04 ,  B05B 1/14 ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 643

FI (5件)：

B05B 1/04 ,  B05B 1/14 Z ,  B05C 5/00 101 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/304 643 C

Fターム (13件)：

4F033AA14 ,  4F033BA03 ,  4F033DA01 ,  4F033DA05 ,  4F033EA02 ,  4F033NA01 ,  4F041AA05 ,  4F041AB02 ,  4F041BA12 ,  4F041BA13 ,  4F041BA52 ,  4F042AA08 ,  4F042EB17