特許
J-GLOBAL ID:200903092037914131
バンドパスフィルタの製造方法及びバンドパスフィルタ
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
宮▼崎▲ 主税
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-047918
公開番号(公開出願番号):特開2001-237609
出願日: 2000年02月24日
公開日(公表日): 2001年08月31日
要約:
【要約】【課題】 高周波化・小型化が容易であり、製造に際しての寸法精度管理を緩和することができ、製造が容易であり、安価なバンドパスフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】 誘電体基板2に形成された一枚の金属膜3において第1,第2の共振モードを発生させるように、金属膜3の形状と、入出力結合回路の結合点5a,5bとを選択し、第1,第2の共振モードを結合するために少なくとも一方の共振モードの共振電流または共振電界の少なくとも一部を不連続化させる、バンドパスフィルタの製造方法。
請求項(抜粋):
誘電体基板表面または誘電体基板内部に形成された一枚の金属膜において第1,第2の共振モードを発生させるように、該金属膜の形状と、金属膜に対する入出力結合回路の結合点とを選択する工程と、前記第1,第2の共振モードが結合するように、少なくとも一方の共振モードの共振電流または共振電界の少なくとも一部を不連続化する工程とを備えることを特徴とする、バンドパスフィルタの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (12件):
5J006HB03
, 5J006HB15
, 5J006JA01
, 5J006LA11
, 5J006LA25
, 5J006MA03
, 5J006NA04
, 5J006NB00
, 5J006NB05
, 5J006NC02
, 5J006NE13
, 5J006NE14
引用特許:
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