特許

J-GLOBAL ID：200903092055897970

ポリシランの製造方法

発明者： 藤井 幸男
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-052446
公開番号（公開出願番号）：特開平8-245795
出願日： 1995年03月13日
公開日（公表日）： 1996年09月24日
要約：

【要約】【構成】一般式(1)【化1】(これらの式中、R1 、R2 は炭素数1〜22のアルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基または置換アルコキシ基、炭素数6〜22のアリール基、置換アリール基、アリーロキシ基または置換アリーロキシ基を示し、R1 およびR2 は同一でも互いに異なっていてもよく、R1 およびR2 の配列が特定の規則性をもっていてもよい。Xはそれぞれ独立に塩素、臭素または沃素原子を示す。mは1〜50の整数を示す。)で表わされるジハロシランを不活性溶媒中でアルカリ金属により縮重合反応させるポリシランの製造方法において、反応の初期はエーテル系化合物を含まない溶媒中で反応を行い、ついでエーテル系化合物を加えて反応を行うポリシランの製造方法。【効果】光導電性材料や非線形光学材料または耐熱性に優れた非酸化物セラミックの前駆体物質などに有用な、重量平均分子量が約5,000以上の高分子量のポリシランを高収率で得ることができる。

請求項（抜粋）：

一般式(1)または(2)【化1】【化2】(これらの式中、R1 、R2 は炭素数1〜22のアルキル基、置換アルキル基、アルコキシ基または置換アルコキシ基、炭素数6〜22のアリール基、置換アリール基、アリーロキシ基または置換アリーロキシ基を示し、R1 およびR2 は同一でも互いに異なっていてもよく、R1 およびR2 の配列が特定の規則性をもっていてもよい。R3 は炭素数1〜22の二官能性の有機基を示し、Xはそれぞれ独立に塩素、臭素または沃素原子を示す。a、bおよびmは1〜50の整数を示す。)で表わされるジハロシランを不活性溶媒中でアルカリ金属により縮重合反応させるポリシランの製造方法において、反応の初期はエーテル系化合物を含まない溶媒中で反応を行い、ついでエーテル系化合物を加えて反応を行うことを特徴とするポリシランの製造方法。