特許

J-GLOBAL ID：200903092056417602

EUV放射線を発生させる方法、この放射線を用いてデバイスを製造する方法、EUV放射線発生源ユニット、およびこの放射線発生源ユニットを備える露光投影装置

発明者： テオドルス、エイチ.ジェー.ビショップス ,  ジョセフ、ジェイ.エイ.エム.ブラッキング ,  マーク、ティー.ミューウェーズ
出願人/特許権者： コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
代理人 (1件)： 吉武 賢次 (外5名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-549065
公開番号（公開出願番号）：特表2003-518731
出願日： 2000年12月13日
公開日（公表日）： 2003年06月10日
要約：

【要約】【課題】 放射線発生源からの汚染粒子に起因する諸問題を解消する。【解決手段】 液体小滴(39)から成る流れ(35)を発生させるステップと、この流れを真空ポンプ(34)に接続された発生源スペース(33)中に注入するステップと、個々の小滴(39)に、小滴に焦点を合わせた強力なパルス化されたレーザビーム(41)を照射して、EUV放射線を放出するプラズマ(47)を生成するステップと、を含む、EUV放射線を発生させる方法を開示する。その液体の上記が発生源スペース(33)内の真空を破壊することを防止し、また、EUV放射線から成る連続フラックスを保証するために、流れ(35)は発生源スペースと直列した追加の真空スペース(53、56、63)中を誘導される。また、本方法を実現するEUV放射線発生源ユニットと、ICデバイスなどのデバイスの製造や露光投影装置に本方法を応用する方法と、が開示される。

請求項（抜粋）：

EUV放射線を発生させる方法であって、 移動可能な媒体を真空発生源スペースに注入し、前記発生源スペースにおける前記媒体の後続する部分に、パルス化され集束された高エネルギのレーザビームを毎回照射し、 EUV放射線を放出するプラズマに前記媒体部分を変換し、その後、前記媒体を、前記発生源スペースよりも低い真空度に維持され前記発生源スペースと直列の第1のさらなる真空スペースを通過させる方法であって、 前記媒体を、前記発生源スペースと直列の少なくとも第2のさらなる真空スペースを通過させ、 前記第2の真空スペースは、前記発生源スペースよりも低い真空度に維持されることを特徴とする方法。

IPC (10件)：

H05G 2/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00 ,  H01S 4/00 ,  H05H 1/24 ,  G21K 7/00

FI (10件)：

G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H01S 3/00 A ,  H01S 4/00 ,  H05H 1/24 ,  G21K 7/00 ,  H05G 1/00 K ,  H01L 21/30 531 S

Fターム (18件)：

2H097CA01 ,  2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  4C092AA06 ,  4C092AA14 ,  4C092AA15 ,  4C092AC09 ,  5F046GA03 ,  5F046GA09 ,  5F046GC03 ,  5F072AA06 ,  5F072AB02 ,  5F072AC01 ,  5F072KK30 ,  5F072MM17 ,  5F072RR07 ,  5F072SS06 ,  5F072YY09