シリルアルキルボラジンから成る高温安定性ケイ素ホウ素炭化物窒化物セラミック、その製法ならびにその使用

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-526876
公開番号（公開出願番号）：特表2004-509127
出願日： 2001年09月12日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

本発明は、構造特性Si-C-Bを有するシリルアルキルボランの製法、新規分子状シリルアルキルボラン、新規分子状シリルアルキルボラジン、新規オリゴおよびポリホウ素カルボシラザン、その製法およびその使用、ならびにケイ素ホウ素炭化物窒化物セラミックおよびその製法に関する。

請求項（抜粋）：

式(I) (R)3Si-C(R1)(R2)-B(R)2 [式中、Rはそれぞれ相互に独立に1〜20個の炭素原子を有する炭化水素、水素、ハロゲン、NR’R’’またはOR’(この場合に、R’およびR’’は、相互に独立に水素または1〜20個の炭素原子を有する炭化水素基である)であり、かつR1およびR2は、相互に独立に水素、ハロゲン、1〜20個の炭素原子を有する炭化水素、NR’R’’またはOR’(この場合に、R’およびR’’は、相互に独立に水素または1〜20個の炭素原子を有する炭化水素基である)である] の化合物の製法において、一般式(II) (R)3Si-C(R1)(R2)-X [式中、Xはハロゲンである] のシランを、金属Mと50°Cを下回る温度で非プロトン性有機溶剤中で反応させて、一般式(III) (R)3Si-C(R1)(R2)-M(X)w [式中、Mが一価の金属である場合にはw=0であり、かつ Mが多価の金属である場合にはwはM-1の原子価に相当する≧1の整数である] のシランにし、かつ一般式(III)の化合物を引き続き50°Cを下回る温度で一般式 Y-B(R)2 [式中、Rは上記の意味であり、かつYはハロゲン、NR’R’’またはOR’(この場合に、R’およびR’’は、相互に独立に水素または1〜20個の炭素原子を有する炭化水素である)である] のボランと反応させることを特徴とする、式(I)の化合物の製法。

IPC (3件)：

C07F7/12 , C04B35/56 , C07F7/08

FI (3件)：

C07F7/12 Q , C04B35/56 301A , C07F7/08 S

Fターム (13件)：

4G001BA77 , 4G001BB56 , 4G001BC54 , 4H049VN01 , 4H049VP01 , 4H049VP03 , 4H049VQ12 , 4H049VQ69 , 4H049VR21 , 4H049VR24 , 4H049VR33 , 4H049VU11 , 4H049VU12

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開昭60-120725

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