特許

J-GLOBAL ID：200903092064040100

光学基板及びその製造方法並びに光学装置

発明者： 吉澤 睦美 ,  西川 尚男 ,  高桑 敦司
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-309746
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114310
出願日： 2001年10月05日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：

【要約】【課題】 簡単に膜のパターンを得ることができる光学基板及びその製造方法並びに光学装置を提供することにある。【解決手段】 光学基板の製造方法では、光透過性部材10の凸部12と凹部14において、膜パターン30を形成するための材料の堆積されやすさが異なるように、光透過性部材10を加工する。光透過性部材10の凸部12及び凹部14のうち、膜パターン30を形成するための材料が堆積されやすく加工された一方に、膜パターン30を形成するための材料を選択的に堆積させて、膜パターン30を形成する。

請求項（抜粋）：

(a)光透過性部材の凸部と凹部において、膜パターンを形成するための材料の堆積されやすさが異なるように、前記光透過性部材を加工し、(b)前記光透過性部材の凸部及び凹部のうち、前記膜パターンを形成するための材料が堆積されやすく加工された一方に、前記膜パターンを形成するための材料を選択的に堆積させて、前記膜パターンを形成することを含む光学基板の製造方法。

IPC (6件)：

G02B 5/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1335 500 ,  H01L 27/14

FI (6件)：

G02B 5/00 B ,  G02B 3/00 A ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 ,  G02F 1/1335 500 ,  H01L 27/14 D

Fターム (24件)：

2H042AA09 ,  2H042AA15 ,  2H042AA26 ,  2H042AA29 ,  2H048BA11 ,  2H048BB01 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB46 ,  2H091FA29 ,  2H091FA35 ,  2H091FC06 ,  2H091GA01 ,  2H091LA12 ,  4M118AA10 ,  4M118AB01 ,  4M118BA10 ,  4M118CA04 ,  4M118CB14 ,  4M118EA01 ,  4M118GB06 ,  4M118GB11 ,  4M118GC07 ,  4M118GD04