特許

J-GLOBAL ID：200903092065682351

露光方法及び装置

発明者： 白石 直正
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-315080
公開番号（公開出願番号）：特開平11-150051
出願日： 1997年11月17日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：

【要約】【課題】 照明光の可干渉性が高い場合にウエハ上での露光量のむらを低減できる走査露光型の露光装置を提供する。【解決手段】 レチクルを照明する照明光学系内に、断面形状が長方形のレンズエレメント31aを縦横に配列してなるフライアイレンズ31が配置され、フライアイレンズ31の射出面に形成される多数の2次光源23からの照明光でレチクルの照明領域21を重畳して照明する。フライアイレンズ31のレンズエレメントの配列方向を非走査方向に対応する方向から角度θだけ傾斜させておくことによって、レチクル上の照明領域21内に形成される干渉縞24の明暗の長手方向を走査方向(Y方向)に対して角度θだけ傾斜させる。走査露光時に、レチクル上の各点が照明領域21を横切る際に、各点が干渉縞24のピッチ方向に相対移動するため、露光量が平滑化される。

請求項（抜粋）：

マスクと基板とを同期移動して、前記マスクのパターンを前記基板上に転写する露光方法において、互いに異なる入射角で複数の照明ビームを前記マスクに照射し、前記複数の照明ビームによって形成される干渉縞の配列方向と直交する方向と、前記マスクの移動方向とを交差させることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 516 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 518