特許
J-GLOBAL ID：200903092124404808
静電植毛装置を構成する静電植毛室
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志村 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228366
公開番号（公開出願番号）：特開2001-046923
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 入口と出口の間の距離を長くとった静電植毛室を高速で通過させる静電植毛加工物に対して好適な植毛状態を具現しようとする。【解決手段】 高速で静電植毛加工物を入口から出口に向って通過させて静電植毛加工を行うため入口から出口の間の距離を長くした静電植毛室を高速で通過させる静電植毛加工物の通路に平行して高い電圧を印加する電極、該電極に印加する電圧より低く調整した電圧を印加する電極を配した。
請求項（抜粋）：
静電植毛加工物を入口から出口に向って高速で通過させて静電植毛加工を行うため入口から出口の間の距離を長くして静電植毛室を構成するとともに、該静電植毛室の静電植毛加工物を通過させる通路に、該通路と平行して、入口側に高い電圧を印加する電極を配し、該電極に続いて出口側に向って該電極に印加する電圧より低く調整した電圧を印加する電極を配したことを特徴とする静電植毛装置を構成する静電植毛室。
Fターム (3件)：
4F034AA09
, 4F034DA17
, 4F034DA26
