特許
J-GLOBAL ID：200903092127858109
洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
柏谷 昭司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-014457
公開番号（公開出願番号）：特開平6-232103
出願日： 1993年02月01日
公開日（公表日）： 1994年08月19日
要約：
【要約】【目的】 洗浄方法に関し、Alからなる配線など、半導体装置の諸部分を損傷することなく、しかも、充分なパーティクルの除去を行うことを可能にする。【構成】 溶質7内に於いて被洗浄物である半導体ウエハ8を相対向する電極3と電極4との間に配置し且つ電極3と電極4との間に電源6から交流電圧を印加することで半導体ウエハ8に交流電界を加えてパーティクルの静電気を除去すると共に振動容器2内の発振回路及び振動子を動作させて超音波洗浄するようにしている。
請求項（抜粋）：
溶質内に於いて被洗浄物を相対向する電極間に配置し且つ前記各電極の間に交流電圧を印加することで被洗浄物に交流電界を加えて静電気を除去すると共に超音波洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, B08B 3/10
