特許
J-GLOBAL ID:200903092145912951
樹脂製造装置の洗浄溶媒
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
古谷 馨 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-101098
公開番号(公開出願番号):特開平7-258420
出願日: 1994年05月16日
公開日(公表日): 1995年10月09日
要約:
【要約】【目的】 樹脂製造装置及びその樹脂を用いた設備に付着した樹脂を排水基準の厳しいハロゲン系触媒を用いずに樹脂を分解溶解させる溶媒を提供する。【構成】 樹脂製造装置の洗浄溶媒がフェノール、ベンジルアルコール、ピリジン、ジメチルホルムアミド、エチルアセテートおよびテトラヒドロフランの中から選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする樹脂製造装置の洗浄溶媒。
請求項(抜粋):
樹脂製造装置の洗浄溶媒がフェノール、ベンジルアルコール、ピリジン、ジメチルホルムアミド、エチルアセテートおよびテトラヒドロフランの中から選ばれる1種または2種以上であることを特徴とする樹脂製造装置の洗浄溶媒。
IPC (6件):
C08G 85/00 NVC
, C08G 63/78 NLN
, C08G 64/20 NPU
, C11D 7/26
, C11D 7/32
, C11D 7/50
引用特許:
審査官引用 (6件)
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特開昭51-098794
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特開平2-155921
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特開平4-088017
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