特許
J-GLOBAL ID：200903092148928069
光直接変調PSK方式における変調指数測定システム及び該システムを用いた半導体レーザの制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松本 昂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-177916
公開番号（公開出願番号）：特開平5-026736
出願日： 1991年07月18日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】光直接変調PSK方式における変調指数測定システム及び該システムを用いた半導体レーザの制御方法に関し、変調指数の測定を容易化する。【構成】PSK方式により変調された信号光を局部発振光と重畳したものを検波して得られた中間周波信号の周波数を周波数ダブラ5により2倍にして周波数分析器6に入力し、周波数分析器6に表れる大きな二つの周波数成分の周波数差に基づいて変調指数を求める。
請求項（抜粋）：
注入電流に応じた周波数の光を出力する半導体レーザ(31)に与える上記注入電流を、2値符号化された入力信号の1タイムスロットよりも短い所定の時間だけ変化させて、上記注入電流の変化に従って変動した周波数の積分値が位相量としてπ又は-πとなるようにして信号光を送出する2値光直接変調PSK方式における変調指数測定システムであって、局部発振光を出力する光局部発振回路(2) と、上記信号光に上記局部発振光を重畳する光重畳回路(3) と、該光重畳回路(3) からの信号光及び局部発振光を光-電気変換して中間周波信号を生じさせる光検波回路(4) と、該中間周波信号の周波数を2倍にする周波数ダブラ(5) と、該周波数ダブラ(5) からの信号の周波数成分を分析する周波数分析器(6) とを備え、該周波数分析器(6) に表れる大きな二つの周波数成分の周波数差に基づいて変調指数を求めることを特徴とする変調指数測定システム。
IPC (6件)：
G01J 9/00
, G02F 2/00
, H01L 21/66
, H01S 3/103
, H04B 10/08
, H04L 27/18
