特許

J-GLOBAL ID：200903092164485487

化学除染方法

発明者： 中村 文人 ,  会沢 元浩 ,  長瀬 誠 ,  古川 清治 ,  吉川 博雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  栗田エンジニアリング株式会社 ,  栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 小川 勝男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-257532
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083294
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】化学除染終了時の目標DFや水質を安定して達成する。【解決手段】放射性核種に汚染された金属部材表面から放射性核種を化学的に除去する化学除染法において、除染液が有機酸を主成分とする還元除染剤を用いる還元除染工程と、該工程終了後に行う還元除染剤の分解時に、樹脂塔からの放射性金属イオンのリークを抑制することを特徴とする化学除染方法。

請求項（抜粋）：

放射性核種に汚染された金属部材表面から放射性核種を化学的に除去する化学除染法において、除染液が有機酸を主成分とする還元除染剤を用いる還元除染工程と、該工程終了後に行う還元除染剤の分解時に、樹脂塔からの放射性金属イオンのリークを抑制することを特徴とする化学除染方法。