特許

J-GLOBAL ID：200903092179340400

基板乾燥方法および基板乾燥装置

発明者： 藤川 和憲 ,  松田 承真 ,  長谷川 公二
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-295238
公開番号（公開出願番号）：特開2000-124187
出願日： 1998年10月16日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】 処理槽内の純水中に基板を浸漬させて水洗した後、基板を純水中から露出させて処理槽内で基板を乾燥させる場合に、基板の表面に付着した純水を完全に水溶性の有機溶剤に置換させて基板を乾燥させ、基板にウォーターマークが発生することを防止できる方法を提供する。【手段】 処理槽内10に収容された純水68中に浸漬させられて水洗された基板Wを純水中から露出させて乾燥させる場合に、基板を純水中から露出させる途中または露出させた後に、基板に対して水溶性の有機溶剤86のミストを窒素ガスと共に供給する。

請求項（抜粋）：

処理槽内に収容された純水中に浸漬させられて水洗された基板を純水中から露出させて乾燥させる基板乾燥方法において、基板を純水中から露出させる途中および/または露出させた後に、基板に対して水溶性の有機溶剤のミストを供給することを特徴とする基板乾燥方法。

IPC (2件)：

H01L 21/304 651 ,  F26B 21/14

FI (2件)：

H01L 21/304 651 H ,  F26B 21/14

Fターム (7件)：

3L113AA01 ,  3L113AB02 ,  3L113AC08 ,  3L113AC30 ,  3L113AC48 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34