特許

J-GLOBAL ID：200903092183973646

研磨装置用コンディショナー

発明者： 伊藤 信幸 ,  三島 健司 ,  山田 貴子
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-401575
公開番号（公開出願番号）：特開2002-200551
出願日： 2000年12月28日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：

【要約】【課題】 本発明の目的は、CMPスラリー等に対する化学的安定性に優れた研磨装置用コンディショナーを提供する。【解決手段】 本発明の研磨装置用コンディショナーは、研磨装置の表面をコンディショニングするためのコンディショナーであって、ダイヤモンド粒子が埋め込まれたニッケルコンディショニング部材に、粒子表面に荷電を有するポリイミド樹脂粒子を電着してなる、ポリイミド被覆コンディショニング部材を備えることを特徴とする。このニッケルコンディショニング部材は、ディスク状、ペレット状または環状であることが好ましい。

請求項（抜粋）：

研磨装置の表面をコンディショニングする研磨装置用コンディショナーであって、ダイヤモンド粒子が埋め込まれたニッケルコンディショニング部材に、ポリイミド樹脂を被覆したコンディショニング部材を備えることを特徴とする研磨装置用コンディショナー。

IPC (3件)：

B24B 37/00 ,  B24B 53/12 ,  H01L 21/304 622

FI (3件)：

B24B 37/00 A ,  B24B 53/12 Z ,  H01L 21/304 622 M

Fターム (7件)：

3C047EE18 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA19 ,  3C058CB01 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17