特許

J-GLOBAL ID：200903092186332684

基板処理装置

発明者： 倉田 康弘
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 稲岡 耕作 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-166238
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016982
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】パーティクルの発生を防止でき、しかもシャッタ板をスムーズに移動させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】薬液処理ユニットMTC の処理室C1の側壁1には、ウエハ通過用の開口7が形成されている。開口7を開閉するためのシャッタ板41は、処理室C1外に設けられたシャッタ駆動機構60によって開閉動作させられる。シャッタ駆動機構60は、開口7を閉成状態から開成状態にする際に、シャッタ板41を側壁1から離隔させつつ下方に移動させる。【効果】シャッタ板と側壁とが摺動しないから、パーティクルの発生を防止できる。また、薬液が結晶化したり高粘性の薬液を使用したりする場合でも、シャッタ板をスムーズに移動させることができる。

請求項（抜粋）：

基板に対して処理液を供給して処理を施すための処理室と、この処理室を区画するとともに、基板の通過を許容する開口部が形成された隔壁と、上記開口部を開成/閉成可能なシャッタ板と、上記開口部が閉成された状態から開成された状態にする際に、上記シャッタ板を、上記開口部が形成された隔壁に対してほぼ垂直な方向に向けて離隔させ、上記開口部を通って搬送されるべき基板の通路を確保する退避位置に導くためのシャッタ駆動部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 351 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/304 351 S ,  H01L 21/306 J