特許
J-GLOBAL ID:200903092189222901

施肥管理方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-070207
公開番号(公開出願番号):特開2005-253377
出願日: 2004年03月12日
公開日(公表日): 2005年09月22日
要約:
【課題】植物への余分な施肥をなくし、過剰施肥によるコストアップや肥料流出による環境負荷の増大などを抑える。【解決手段】植物が現在その生長過程におけるどの生長ステージにあるかを判断し、各生長ステージにおいて、植物への日射量の積算値がその生長ステージに対して定められた所定値(閾値S1,S2,S3,S4)に達する毎に、その生長ステージに対して定められた施肥量(係数α1,α2,α3,α4)の施肥を行う。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
植物への日射量を積算する工程と、 前記植物への日射量の積算値が所定値に達する毎に前記植物への施肥を行う工程と を備えることを特徴とする施肥管理方法。
IPC (1件):
A01C21/00
FI (1件):
A01C21/00 Z
Fターム (1件):
2B052BA08
引用特許:
審査官引用 (3件)

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