特許

J-GLOBAL ID：200903092221290612

高周波プラズマ生成装置

発明者： 青井 辰史 ,  竹内 良昭 ,  真島 浩 ,  山越 英男
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-302554
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110566
出願日： 2000年10月02日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：

【要約】【課題】本発明は、高周波電源の逆流・干渉による機器の破損を回避でき、また高周波電源の相互干渉を回避して整合条件が変化するのを防止すること課題とする。【解決手段】反応容器21内に配置された放電用電極23へ給電を行う複数の高周波電源28a,28bと、前記放電用電極28a,28bと前記高周波電源28a,28b間に配置された、反射電力を分離処理する逆流防止回路30a,30bとを具備したことを特徴とする高周波プラズマ生成装置。

請求項（抜粋）：

反応容器内に配置された放電用電極へ給電を行う複数の高周波電源と、前記放電用電極と前記高周波電源間に配置された、反射電力を分離処理する逆流防止回路とを具備したことを特徴とする高周波プラズマ生成装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (4件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/509 ,  H05H 1/46 R ,  H01L 21/302 B

Fターム (15件)：

4K030FA03 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  4K030KA41 ,  4K030KA49 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BD04 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH12 ,  5F045EH19 ,  5F045GB08