特許
J-GLOBAL ID：200903092239664544
ジエン系ゴム・無機化合物複合体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小島 清路
, 谷口 直也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-078754
公開番号（公開出願番号）：特開2004-285196
出願日： 2003年03月20日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：
【課題】ジエン系ゴム中への無機化合物の分散性が高く、比較的大きな複合体とすることによって、ゴム製品の製造時の作業性を向上させることのできるジエン系ゴム・無機化合物複合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】本製造方法は、上記無機化合物及び/又は該無機化合物を形成可能な物質と、アニオン性化合物と、上記ジエン系ゴムの水系分散液とを混合する工程を備え、ジエン系ゴムと一般式wM・xSiOy・zH2Oで表される無機化合物とを含む複合体を製造することを特徴とする。アニオン性化合物としては、カルボキシル基を有する化合物(ロジン酸塩等)が好ましく、ジエン系ゴムの分散液としては、乳化重合によって得られたラテックスが好ましい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ジエン系ゴムと下記一般式(I)で表される無機化合物とを含む複合体の製造方法であって、
上記無機化合物及び/又は該無機化合物を形成可能な物質と、アニオン性化合物と、上記ジエン系ゴムの水系分散液とを混合する工程を備えることを特徴とするジエン系ゴム・無機化合物複合体の製造方法。
wM・xSiOy・zH2O (I)
(式中、Mは、Al、Mg、Ti及びCaから選ばれる少なくとも1種の金属元素、金属酸化物又は金属水酸化物であり、w、x、y及びzはそれぞれ1〜5の整数、0〜10の整数、2〜5の整数、及び0〜10の整数である。)
IPC (3件)：
C08L9/00
, C08C1/14
, C08K3/34
C08L9/00
, C08C1/14
, C08K3/34
4J002AC021
, 4J002AC031
, 4J002AC071
, 4J002AC081
, 4J002DE076
, 4J002DE136
, 4J002DE146
, 4J002DJ006
, 4J002DJ036
, 4J002GT00
