特許

J-GLOBAL ID：200903092243318359

放電プラズマ処理装置及びそれを用いた処理方法

発明者： 真弓 聡
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-248042
公開番号（公開出願番号）：特開2003-059909
出願日： 2001年08月17日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】 放電プラズマ処理装置において、複数の放電空間を有しながらも、装置的に設備の重複を防ぎ、かつ、複数の放電空間毎に独立で放電プラズマを発生させることができる装置の提供。【解決手段】 対向電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆された電極を3枚以上使用して放電空間を2つ以上設けた電極間に電界を印加して放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置であって、複数の電極の印加電極を一つの電源に接続してなることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

対向電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆された電極を3枚以上使用して放電空間を2つ以上設けた電極間に電界を印加して放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置であって、複数の電極の印加電極を一つの電源に接続してなることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/3065 ,  C23C 16/515 ,  H05H 1/24

FI (3件)：

C23C 16/515 ,  H05H 1/24 ,  H01L 21/302 C

Fターム (10件)：

4K030FA01 ,  4K030KA30 ,  5F004BA06 ,  5F004BB29 ,  5F004BC06 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004DA01 ,  5F004DA23 ,  5F004DB03