特許

J-GLOBAL ID：200903092252796654

レーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタ

発明者： 丸尾 成司 ,  有本 昭 ,  前田 佳均
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立工機株式会社
代理人 (1件)： 平木 道人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-175887
公開番号（公開出願番号）：特開平7-084200
出願日： 1993年06月24日
公開日（公表日）： 1995年03月31日
要約：

【要約】【目的】 入射光の入射角変動に対する消光比の変動を低く抑えるようにしたレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタを提供する。【構成】 多層膜を1対のプリズムの接合面に有し、感光体の2か所に静電潜像を同時に形成するためにブリュースターアングルでの入射位置を中心にプリズムの長軸方向に走査されて接合面の各位置に走査角に応じた入射角で入射されるエネルギビ-ムを偏光成分に応じて2方向に分岐するレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタにおいて、多層膜を構成する各薄膜の光学的膜厚を、ブリュースターアングルで入射されたエネルギビ-ムの光路長が略λ0 /4となる光学的膜厚よりも薄くなるようにした

請求項（抜粋）：

多層膜を1対のプリズムの接合面に有し、感光体の2か所に静電潜像を同時に形成するためにブリュースターアングルでの入射位置を中心にプリズムの長軸方向に走査されて接合面の各位置に走査角に応じた入射角で入射されるエネルギビ-ムを偏光成分に応じて2方向に分岐するレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタにおいて、前記多層膜を構成する各薄膜の光学的膜厚(d)は、ブリュースターアングルで入射されたエネルギビ-ムの光路長が略λ0 /4となる光学的膜厚(d0 )よりも薄いことを特徴とするレーザプリンタ装置用の偏光ビームスプリッタ。

IPC (3件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  G02B 5/30