特許

J-GLOBAL ID：200903092264292570

ITOスパッタリング用ターゲットの製造方法

発明者： 小 林 茂 ,  尾 野 直 紀 ,  瀬 戸 康 博 ,  川 原 哲 也 ,  福 本 浩 敏
出願人/特許権者： 三井金属鉱業株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-086368
公開番号（公開出願番号）：特開平6-299345
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】【目的】 特殊な設備を用いることなく、低コストで高密度のITOターゲットを高い生産性のもとに製造すること。【構成】 酸化インジウムと酸化すずを主成分とする粉末混合体をプレス成形し、焼結してITOスパッタリング用ターゲットを製造する方法において、前記プレス成形体を焼結温度にまで加熱昇温する速度を1時間に350°C以上とすることを特徴とするITOスパッタリング用ターゲットの製造方法。

請求項（抜粋）：

酸化インジウムと酸化すずを主成分とする粉末混合体をプレス形成し、焼結して、ITOスパッタリング用ターゲットを製造する方法において、前記プレス成形体を焼結温度にまで加熱昇温する速度を1時間に350°C以上とすることを特徴とするITOスパッタリング用ターゲットの製造方法。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  C04B 35/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-225366
  
• 特開平4-074860
  
• 高密度ITO焼結体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-061190   出願人：同和鉱業株式会社