特許
J-GLOBAL ID：200903092279632432
プラズマドライエッチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-260438
公開番号（公開出願番号）：特開平8-124905
出願日： 1994年10月25日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：
【要約】【目的】レジストパターン毎にエッチング条件を決定しなくても、良好なエッチング形状が得られるプラズマドライエッチング方法を提供する。【構成】プラズマドライエッチングを実行する平行平板型のエッチングチャンバ1にはエッチングガスとは別にガス流量制御装置2からCO,CO2 を供給可能とし、エッチングチャンバ1には、雰囲気中の発光強度を監視するための監視装置4の監視側端部を挿入し、その監視装置4の監視結果はコントローラ3に供給する。コントローラ3は、エッチングの初期段階におけるエッチングチャンバ1内のCO,CO2 の発光強度E1 と、被エッチング膜を形成する成分を含んだ組成の反応生成物の発光強度E2 とを求め、それら発光強度の比率R1 (=E1 /E2 )と所定比率R0 とが一致するように、ガス流量制御装置2に指令信号Iを出力してCO,CO2 の流量を制御する。
請求項（抜粋）：
プラズマドライエッチング実行時の初期段階で、雰囲気中の炭素系ガスの発光強度E1 と、被エッチング膜を形成する成分を含んだ組成の反応生成物の発光強度E2 とを監視し、それら発光強度の比率(E1 /E2 )が所定比率となるように、前記雰囲気中に炭素系ガスを導入することを特徴とするプラズマドライエッチング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 F
, H01L 21/302 J
