特許
J-GLOBAL ID：200903092280513145
有機EL素子およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-325405
公開番号（公開出願番号）：特開2000-148090
出願日： 1998年11月16日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【課題】 従来の層構成の有機EL素子では、不要箇所が実質的に発光しないものを高い歩留まりの下に製造することが困難である。【解決手段】 基板上に第1の電極,発光層を含む1〜複数の有機層および第1の電極とは反対の極性の電極として使用される第2の電極を積層することによって形成された有機EL素子は、発光領域と、非発光領域とを有する。非発光領域においては、第1の電極または第2の電極と有機層とが絶縁膜によって電気的に絶縁されており、かつ、引き回しパターンと有機層もまた絶縁膜によって電気的に絶縁されている。
請求項（抜粋）：
基板上に第1の電極層、発光層を含む1〜複数の有機層および前記第1の電極とは反対の極性の電極として使用される第2の電極層を有し、前記第1の電極層および前記第2の電極層が存在するが発光すべきでない領域において、前記第1の電極層と前記第2の電極層との間に絶縁層が設けられている有機EL素子。
Fターム (5件)：
5C080AA06
, 5C080BB02
, 5C080DD28
, 5C080EE05
, 5C080JJ06
