特許
J-GLOBAL ID：200903092286137110
反射型液晶表示装置における基板及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-356809
公開番号（公開出願番号）：特開平11-281993
出願日： 1998年12月15日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：
【要約】【課題】製造歩留りを向上することができる反射型液晶表示装置における基板の製造方法を提供する。【解決手段】(b)に示すように、反射電極4となるAlを成膜する前に((c)参照)、少なくとも接続電極3となるITOの全体を覆うように保護膜9を形成する。この保護膜9により、(d ́)に示すように、フォトリソ工程で反射電極4であるAlに発生したピンホール等7を介して現像液6が浸入しても、現像液6が保護膜9を通過せず、接続電極3であるITOと接触することがない。このため、その後に、(e)に示すように反射電極4となるAlをパターン化しても、(f)に示す最終形態としては、接続電極3が腐食されることもない。
請求項（抜粋）：
一方が透光性の基板であり、他方が反射電極を有する基板である一対の基板間に液晶層が存在し、該液晶層に隣接して形成された反射電極と、外部からの信号を入力する手段と液晶表示装置とを接続する接続電極を備え、かつ該反射電極と該接続電極とがバス配線を介し接続された反射型液晶表示装置の、該反射電極を有する基板を製造する方法において、該反射電極を形成するための基板に、外部からの信号を入力するための入力用手段と該接続電極とを形成する工程と、次いで該接続電極の上に保護膜を形成する工程と、次いで該接続電極上の保護膜が表出された状態で層間絶縁膜を形成する工程と、次いで該層間絶縁膜をパターニングする工程と、次いで該層間絶縁膜の上に反射電極膜を形成する工程と、次いで該反射電極膜をパターニングし反射電極を形成する工程と、次いで該接続電極を上部の保護膜を除去して表出させる工程とを含む反射型液晶表示装置における基板の製造方法。
IPC (2件)：
G02F 1/1343
, G02F 1/136 500
G02F 1/1343
, G02F 1/136 500
