特許
J-GLOBAL ID：200903092286978948
測定スケールおよび測定システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-345754
公開番号（公開出願番号）：特開2001-194187
出願日： 2000年11月13日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：
【要約】【課題】 絶対位置の測定を容易にする測定スケールを提供する。【解決手段】 二方向においてスケールに対する読取り装置の絶対位置を決めるのに使用されるスケール1とスケール読取り装置2が開示されている。本発明の一実施例においては、チェック柄のパターンがスケール上に生成され、パターンのブロックがCCD5上に画像化されて解読される。このブロックは絶対位置を規定する情報のビットを含んでいる。このパターンは増分の測定のためにも使用される。
請求項（抜粋）：
少なくとも一方向に延びるほぼ一定のピッチを有する読取りできるビットを具え、測定を可能にするための測定スケール(1)であって、該ビットの少なくとも一つのサブセット(8)が前記少なくとも一方向における絶対位置を規定するように構成され、且つ前記測定が増分測定を含んでいることを特徴とする測定スケール。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01B 11/00 A
, G01B 11/00 H
, G01D 5/34 D
