特許
J-GLOBAL ID：200903092292254188
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-032758
公開番号（公開出願番号）：特開平7-245273
出願日： 1994年03月03日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】筒状の反応管と、反応管内で複数の被処理基板を反応管の軸方向積層状態に塔載するボートと、ボートを支持し反応管内の軸方向所定位置にボートを位置決めするボートステージとを備え、ボートステージの反ボート側に位置する反応管の原料ガス導入口から原料ガスを反応管内で低圧力となるように導入して高温に加熱された基板表面への熱処理を行う基板処理装置を、ボート上流側の基板を含め、全基板の熱処理結果が面内均一となる装置に構成する。【構成】ボートステージ2の原料ガス導入口側に、ボート7の筒状輪郭周面断面と同形,等大の周面断面をもつ筒状輪郭を形成する整風部を備えた装置として、整風部通過中に原料ガスの流れの乱れを終息させる。
請求項（抜粋）：
内部空間が反応室となる筒状の反応管と、反応管内で複数の被処理基板を反応管の軸方向積層状態に塔載するボートと、ボートを支持し反応管内の軸方向所定位置にボートを位置決めするボートステージとを備え、反応管内に位置する被処理基板を所定温度に加熱しつつボートステージの反ボート側に位置する反応管の原料ガス導入口から反応管内へ原料ガスを反応管内で低圧力となるように導入して被処理基板表面に薄膜を形成し、あるいは基板表面の酸化,基板表面から基板内部への不純物あるいはイオンの拡散等の熱処理を行う基板処理装置において、ボートステージの反応管原料ガス導入口側に、ボートのみあるいは被処理基板がボートに塔載された状態で被処理基板とボートとで形成する筒状輪郭の周面断面と同形,等大の周面断面をもつ筒状の輪郭を形成する整風部を備えていることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22 511
, H01L 21/205
, H01L 21/324
