特許

J-GLOBAL ID：200903092297532640

エバネッセント光露光用マスク、その製造方法およびその製造装置

発明者： 黒田 亮 ,  池田 勉
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-067122
公開番号（公開出願番号）：特開平11-265056
出願日： 1998年03月17日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】 安定な露光パターン形成が可能な微小なパターン構造を有するエバネッセント光露光用マスクを安定に再現性よく作製する。【解決手段】 おもて面に微小開口パターンを有するマスクのおもて面を被露光物に対向して配置し、該マスク裏面から光を照射し、該微小開口パターンから滲み出るエバネッセント光により、該被露光物に該微小開口パターンの露光・転写を行うエバネッセント光露光装置に用いるマスクの製造方法において、該マスクを該光に対して透明なマスク母材と該光に対して不透明な金属薄膜とから構成し、該金属薄膜に対して尖鋭な探針を押し込み、切削加工を行うことにより、該微小開口パターンの形成を行う。

請求項（抜粋）：

おもて面に微小開口パターンを有するマスクのおもて面を被露光物に対向して配置し、該マスク裏面から光を照射し、該微小開口パターンから滲み出るエバネッセント光により、該被露光物に該微小開口パターンの露光・転写を行うエバネッセント光露光装置に用いるマスクであって、該微小開口パターンの断面が該マスク面法線方向に対して傾斜を有する構造であることを特徴とするエバネッセント光露光用マスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 G ,  G03F 1/08 L ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 505