特許
J-GLOBAL ID：200903092301295410

光学装置の表面を洗浄する方法

発明者：
アペツ,ロルフ テーオ アントン

アペツ,ロルフ テーオ アントン について


出願人/特許権者：
コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ

コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ について


代理人 (3件)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-521721
公開番号（公開出願番号）：特表2007-500440
出願日： 2004年07月19日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
特に、極端紫外線及び/又は軟X線を発生する放射線源によってもたらされるメタロイド及び/又は金属の原子及び/又はイオンによって少なくとも部分的に汚染されている、真空室内に配置された光学装置の少なくとも1つの表面を洗浄する方法を記載する。この方法は、表面(10)上の温度及び/又は真空室(12)内の圧力が、表面に衝突する原子及び/又はイオン(20)が表面上で可動であるよう調整されるよう設計される。
請求項（抜粋）：
特に、極端紫外線及び/又は軟X線を発生する放射線源によってもたらされるメタロイド及び/又は金属の原子及び/又はイオンによって少なくとも部分的に汚染されている、真空室内に配置された光学装置の少なくとも1つの表面を洗浄する方法であって、 前記表面上の主温度及び/又は前記真空室内の圧力は、前記表面に衝突する前記原子及び/又はイオンが前記表面上で可動であるよう調整されることを特徴とする方法。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (2件)：
H01L21/30 531A ,  H01L21/30 514E
Fターム (5件)：
5F046AA17 ,  5F046GB01 ,  5F046GB02 ,  5F046GB04 ,  5F046GB09
引用特許：
審査官引用 (5件)
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