特許
J-GLOBAL ID：200903092328239652
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-201650
公開番号（公開出願番号）：特開平7-057993
出願日： 1993年08月13日
公開日（公表日）： 1995年03月03日
要約：
【要約】【目的】 比較的接近した複数の孤立パターンに対しても転写忠実度を損なうことなく深い焦点深度で投影露光を行う。【構成】 投影光学系の瞳面(フーリエ変換面)又はこの近傍の面上の、中央の円形の透過部FAの結像光と周辺の輪帯状の透過部FBの結像光との間の可干渉性を低減する干渉性低減部材CCMと、中央の透過部FAを通る光束の合焦位置と、周辺の透過部FBを通る光束の合焦位置とを、投影光学系の光軸方向に異ならしめる二重焦点化部材DFMとを設ける。
請求項（抜粋）：
転写用のパターンが形成されたマスクを露光用の照明光で照明する照明手段と、前記照明光のもとで前記マスクのパターンの像を感光性の基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系内の前記マスクのパターン形成面及び前記基板の露光面の双方に対する光学的フーリエ変換面又はその近傍の結像光の通過面上の、前記投影光学系の光軸を中心とする所定半径の円形領域及び前記光軸を中心とする所定幅の輪帯領域の内の少なくとも一方の領域よりなる第1の領域に分布する結像光と、前記結像光の通過面上で前記第1の領域以外の第2の領域に分布する結像光との間の可干渉性を低減する干渉性低減部材と、前記第1の領域を通過する光束の合焦位置と、前記第2の領域を通過する光束の合焦位置とを、前記投影光学系の光軸方向に所定量だけ異ならしめる二重焦点化部材と、を設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G02F 1/1343
