成膜方法および成膜装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：村山光威
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-308628
公開番号（公開出願番号）：特開2005-076089
出願日： 2003年09月01日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】マスクを繰り返し使用可能とし、安定した成膜品質を得ることができる成膜方法および成膜装置を提供する。【解決手段】仕込室10において、基板1をマスク2上に載置したのち、加熱室11にて基板1とマスク2を、真空引きを行いながらヒータ3によって加熱し、成膜室12において蒸着源4を加熱し蒸着を行い、この後、アンロードロック室13にて基板1とマスクを切り離し、基板1は次工程へと搬送され、一方、マスク2はリターン室14を経由し、洗浄室15の洗浄槽5にマスク2を浸すことによって、マスク2表面の薄膜を除去し、さらに、水洗室16において洗浄し、最後にマスク2を乾燥室17において乾燥させて、マスク2を繰り返し使用することを可能にする。これらの工程において、洗浄室15、水洗室16および乾燥室17のマスク2の薄膜除去工程を、1〜100回の成膜ごとに行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被成膜物の任意の領域に成膜を行うために前記被成膜物にマスクを設置し、前記被成膜物と前記マスクを加熱し、前記被成膜物に成膜を行い、成膜終了後、前記被成膜物と前記マスクを分離し、前記マスクを他の被成膜物に用いる成膜方法において、前記マスクが被成膜物に所定回数使用されるごとに前記マスクに付着した薄膜を除去することを特徴とする成膜方法。

IPC (3件)：

C23C14/00 , C23C14/04 , G02B1/11

FI (3件)：

C23C14/00 B , C23C14/04 A , G02B1/10 A

Fターム (8件)：

2K009CC03 , 2K009DD09 , 4K029BA43 , 4K029BC07 , 4K029BD00 , 4K029DA09 , 4K029GA00 , 4K029HA01

引用特許：

出願人引用 (1件)

枚葉式成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-164959 出願人：株式会社東芝

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