特許

J-GLOBAL ID：200903092340035418

光学記録媒体製造用原盤、光学記録媒体製造用スタンパおよび光学記録媒体の製造方法

発明者： 武田 実
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-143711
公開番号（公開出願番号）：特開2002-342986
出願日： 2001年05月14日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】情報ピットパターンあるいはグルーブパターンを微細化することが可能な光学記録媒体の製造方法とそれに用いる原盤およびスタンパの製造方法を提供する。【解決手段】凹凸形状のパターンに沿った拡大マスクMKを用いて、当該拡大マスクのパターンを縮小しながら所定領域毎に一括露光する電子線(EB)描画法により、レジスト原盤RDを露光する。レジスト膜を現像してレジストパターンが形成されたレジスト原盤とする。また、得られたレジスト原盤の凹凸形状が転写されたニッケルなどからなるスタンパを形成する。また、得られたスタンパの上記凹凸形状が転写された媒体基板を形成し、媒体基板上に光学記録膜および保護膜を形成する。

請求項（抜粋）：

光学記録媒体の媒体基板の表面に凹凸形状を転写するために用いられる光学記録媒体製造用原盤の製造方法であって、上記凹凸形状のパターンに沿った拡大マスクを用いて、当該拡大マスクのパターンを縮小しながら所定領域毎に一括露光する電子線描画法により、原盤基板上に形成されたレジスト膜を露光する工程と、上記レジスト膜を現像する工程とを有する光学記録媒体製造用原盤の製造方法。

IPC (4件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/105 546

FI (4件)：

G11B 7/26 501 ,  G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/105 546 D

Fターム (16件)：

5D075EE03 ,  5D075FG01 ,  5D075FG17 ,  5D075FG18 ,  5D075GG01 ,  5D075GG16 ,  5D121AA02 ,  5D121AA20 ,  5D121BA01 ,  5D121BB01 ,  5D121BB21 ,  5D121BB25 ,  5D121BB28 ,  5D121BB38 ,  5D121CA03 ,  5D121CB03