特許
J-GLOBAL ID：200903092343194649
カルボニル化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
角田 嘉宏 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-315674
公開番号（公開出願番号）：特開平11-147855
出願日： 1997年11月17日
公開日（公表日）： 1999年06月02日
要約：
【要約】【課題】 元素周期表第VIII族に属する金属錯体を含む触媒系の存在下、エチレン系またはアセチレン系炭化水素化合物をカルボニル化する際に起こる金属錯体のメタル化を低減する。【解決手段】 前記触媒系に、元素周期表第VIII族に属する金属の原子またはイオンの供給源1molに対して、一般式(I)R1R2-P-R-P-R3R4 (I)(式中、R1、R2、R3及びR4は、同じかまたは異なっており、それぞれ独立して置換または非置換アリール基を表し、Rは、二価の炭化水素系有機基を表す)で示される二座ジホスフィンを0.1〜5molを添加することを特徴とするカルボニル化方法。
請求項（抜粋）：
(1)元素周期表第VIII族に属する金属の原子またはイオンの供給源、(2)有機リン化合物、有機ヒ素化合物及び有機アンチモン化合物より選択される配位子ならびに(3)ブレンステッド酸を含む触媒系の存在下に、(a)少なくとも1つの炭素間不飽和結合を有するエチレン系またはアセチレン系炭化水素化合物と、(b)一酸化炭素と、(c)水、アルコール及びカルボン酸よりなる群から選択される少なくとも1つの求核性化合物とを反応させる工程を含む、前記エチレン系またはアセチレン系炭化水素化合物のカルボニル化方法において、前記元素周期表第VIII族に属する金属の原子またはイオンの供給源(1)1molに対して、一般式(I)R1R2-P-R-P-R3R4 (I)(式中、R1、R2、R3及びR4は、同じかまたは異なっており、それぞれ独立して置換または非置換アリール基を表し、Rは、二価の炭化水素系有機基を表す)で示される二座ジホスフィン0.1〜5molが添加されることを特徴とするカルボニル化方法。
IPC (6件)：
C07C 69/54
, B01J 31/24
, C07C 51/14
, C07C 57/04
, C07C 67/38
, C07B 61/00 300
C07C 69/54 Z
, B01J 31/24 X
, C07C 51/14
, C07C 57/04
, C07C 67/38
, C07B 61/00 300
