特許
J-GLOBAL ID:200903092350598232
ガスの処理方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
熊倉 禎男
, 弟子丸 健
, 井野 砂里
, 松下 満
, 倉澤 伊知郎
, 鈴木 博子
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-537169
公開番号(公開出願番号):特表2009-513330
出願日: 2006年09月28日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
プロセス室から排出されるガスの処理方法であって、排気ガスは、真空ポンプ(20)に運ばれ、窒素パージガスは、排気ガスとともに排気するために排出ガスに加えられる。ポンプからのガス排気は、排気ガスを除害するための除害装置(28)に運ばれる。排気ガスに加えられるパージガスの量は、排気ガスの除害を最適にするように、排気ガスの組成、またはプロセス室に供給されたガスの組成の変化に応答して調整される。
請求項(抜粋):
プロセス室から排出されるガスの処理方法であって、
排気ガスを真空ポンプに運ぶステップと、
ポンプからの排気ガスを除害装置に運ぶステップと、を含み、
パージガスを、除害装置の上流で排気ガスに加え、排気ガスに加えられるパージガスの量を、排気ガスの除害を最適にするように制御する、
ことを特徴とするプロセス室から排出されるガスの処理方法。
IPC (6件):
B01D 53/68
, B01J 19/00
, B01J 19/08
, B01D 53/70
, H01L 21/31
, H01L 21/306
FI (7件):
B01D53/34 134C
, B01J19/00 H
, B01J19/08 E
, B01D53/34 134E
, H01L21/31 F
, H01L21/31 B
, H01L21/302 101G
Fターム (39件):
4D002AA22
, 4D002AC10
, 4D002BA07
, 4D002GA01
, 4D002GA02
, 4D002GA03
, 4D002GB01
, 4D002HA01
, 4G075AA03
, 4G075AA37
, 4G075AA52
, 4G075BA05
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075CA47
, 4G075CA51
, 4G075DA01
, 4G075DA18
, 4G075EB01
, 5F004AA16
, 5F004BC02
, 5F004BC03
, 5F004BC08
, 5F004CA02
, 5F004DA00
, 5F004DA01
, 5F004DA02
, 5F004DA04
, 5F004DA11
, 5F004DA17
, 5F004DA18
, 5F045AA03
, 5F045BB08
, 5F045BB20
, 5F045EB02
, 5F045EE14
, 5F045EG01
, 5F045EG07
, 5F045EG08
引用特許:
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