特許
J-GLOBAL ID：200903092350778869
偏光分離素子およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横沢 志郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-026841
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221325
出願日： 1999年02月04日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：
【要約】【課題】 光学的等方性基板に形成したポリジアセチレン配向膜に紫外線をパターン露光することにより周期格子が形成された偏光分離素子を歩留り良く製造すること。【解決手段】 偏光分離素子の製造に当たり、複屈折材料層としてのポリジアセチレン配向膜を紫外線によりパターン露光する際に、ポリジアセチレン配向膜の配向方向にパターン方向を一致させることにより、当該配向方向に平行な周期格子を形成する。周期格子を前記の配向方向に一致させると、回折効率を高くすることができると共に当該回折効率のばらつきも抑制できる。特に、周期格子のピッチが数ミクロン以下の場合に効果がある。よって、回折効率の高い偏光分離素子を歩留り良く製造できる。
請求項（抜粋）：
光学的等方性基板上にポリジアセチレン配向膜からなる複屈折材料層を形成し、該複屈折材料層に対して紫外線をパターン露光することにより、当該複屈折材料層に、色相変化部および非色相変化部が交互に繰り返された周期格子を形成する偏光分離素子の製造方法において、前記ポリジアセンチレン配向膜の配向方向に対して、前記周期格子の形成方向を一定の方向とすることを特徴とする偏光分離素子の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (16件)：
2H049AA03
, 2H049AA33
, 2H049AA43
, 2H049AA57
, 2H049BA05
, 2H049BA42
, 2H049BA45
, 2H049BA47
, 2H049BB42
, 2H049BB44
, 2H049BC21
, 4F213AB19
, 4F213AH81
, 4F213WA53
, 4F213WA86
, 4F213WB01
