特許
J-GLOBAL ID：200903092380403916

遺構遺物等の実測二次元図作成方法およびシステム

発明者：
本田 卓

本田 卓 について

, 
須藤 直也

須藤 直也 について


出願人/特許権者：
日立エンジニアリング株式会社

日立エンジニアリング株式会社 について


代理人 (1件)： 高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-164059
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012221
出願日： 2002年06月05日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】遺跡発掘調査における遺構、遺物の計測と、それに基づく実測図の作成には、多くの時間がかかるという問題がある。本発明は短時間に多くのデータを高精度に計測した結果から二次元図化する方法およびシステムを提供することを目的とする。【解決手段】スポットレーザー光走査方式三次元計測機を用いて計測された遺構および遺物の三次元座標点群データと二次元図条件を入力し、出力する用紙サイズと解像度から二次元画像のサイズを算出し、三次元座標点群データの座標を視覚方向により変換するとともに奥行方向の前記データを色濃度に変換し、二次元画像のピクセル濃度を統計処理により求め、二次元画像の各ピクセルの濃度を周辺のピクセルの濃度値を用いて新たに設定し、二次元画像の色反転などの処理をおこない画像ファイルとして出力することに特徴がある。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
スポットレーザー光走査方式三次元計測機と、前記計測機を用いて遺跡発掘調査における遺構および遺物の三次元座標点群データを採取し記憶する記憶手段とを有し、前記計測された遺構および遺物の三次元座標点群データから二次元図化し前記遺構および遺物の実測図としての二次元図を作成する方法において、前記三次元座標点群データおよび二次元図条件を入力するステップと、前記入力された二次元図作成条件から作成出力する二次元画像のサイズのピクセル数を算出するステップと、前記三次元座標点群データの座標を前記入力された二次元図条件のうち視覚方向に合わせて変換するとともに前記変換された奥行方向のデータを色濃度に変換するステップと、前記二次元画像のピクセル濃度を求めるステップと、前記これらの二次元図化データを画像ファイルデータとして出力するステップと、から成ることを特徴とする遺構遺物等の実測二次元図作成方法。
IPC (3件)：
G01B11/24 ,  G01C15/00 ,  G06T1/00
FI (3件)：
G01B11/24 A ,  G01C15/00 104Z ,  G06T1/00 315
Fターム (38件)：
2F065AA01 ,  2F065AA04 ,  2F065AA19 ,  2F065AA20 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065CC14 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065FF23 ,  2F065FF41 ,  2F065FF65 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL15 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ41 ,  2F065SS02 ,  5B057AA13 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057BA11 ,  5B057BA23 ,  5B057CA08 ,  5B057CA13 ,  5B057CB08 ,  5B057CB12 ,  5B057CB16 ,  5B057CC04 ,  5B057CD14 ,  5B057CH11 ,  5B057CH12 ,  5B057DB03 ,  5B057DC04
引用特許：
審査官引用 (4件)
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