特許

J-GLOBAL ID：200903092396720032

ウェハ乾燥方法及び乾燥槽及び洗浄槽及び洗浄装置

発明者： 岩井 計夫
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-231004
公開番号（公開出願番号）：特開2000-058498
出願日： 1998年08月17日
公開日（公表日）： 2000年02月25日
要約：

【要約】【課題】ウェハ乾燥槽またはウェハ洗浄装置において、ウェハの表裏両面を短時間でかつ乾燥不良のない良好で乾燥させる。【解決手段】乾燥すべきウェハに対し、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤を吐出し、ウェハを乾燥させる。アルコール系溶剤の吐出タイミングは遅くともリンスの純水吐出が停止するのと同時であることが好ましい。

請求項（抜粋）：

枚様式にウェハを乾燥する方法において、乾燥すべきウェハの表裏面どちらか一方または両方に対しアルコール系溶剤を吐出し、ウェハを乾燥させることを特徴とするウェハ乾燥方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08

FI (5件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 H ,  H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 Z ,  B08B 3/08 Z

Fターム (11件)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201CB15 ,  3B201CB21 ,  3B201CC01 ,  3B201CC11 ,  3B201CC13 ,  3B201CD41