特許
J-GLOBAL ID：200903092413721099
露光方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-319979
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168867
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【目的】 基本的にオフ・アクシス方式のアライメント系を用いながら、動的ゆらぎによる位置合わせ誤差の影響を低減し、且つスループットを向上する。【構成】 テストウエハが載置されたウエハステージ6を、露光時のショット配列に従ってステッピング駆動して、TTR方式のアライメント系3A,3Bで観察したアライメントマークの位置が目標位置にある間のウエハステージ6の位置変動を記憶する。露光対象ウエハへの露光時には、オフ・アクシス方式のアライメント系15で検出したアライメントマークの位置に基づいて各ショット領域の位置決めを行う際に、予め記憶したウエハステージ6の位置変動を再現する。
請求項（抜粋）：
マスク上のパターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を載置して前記投影光学系の光軸に垂直な面内で前記感光基板を位置決めする基板ステージと、該基板ステージの前記投影光学系の光軸に垂直な面内での位置を検出する座標検出手段とを有する投影露光装置の露光方法において、実際に露光対象とする感光基板のショット領域のアライメントマークに対応するアライメントマークが形成された試験用の基板を前記基板ステージ上に載置し、前記試験用の基板を前記実際に露光対象とする感光基板の動きに合わせて位置決めしながら、前記投影光学系及び前記マスクを介して観察される前記試験用の基板のアライメントマークの位置が前記マスクに対して安定するときの前記基板ステージの位置変動の状態を記憶する第1工程と、前記実際に露光対象とする感光基板を前記基板ステージ上に載置して、該感光基板のショット領域のアライメントマークの位置を前記投影光学系を介さずに検出する第2工程と、該第2工程で検出された位置に予め求められているオフセットを加算して前記実際に露光対象とする感光基板の位置決めを行って、該感光基板のショット領域に前記投影光学系を介して前記マスクのパターンを投影する際に、前記第1工程で記憶した前記基板ステージの位置変動の状態を再現するように前記基板ステージの位置を変動させる第3工程とを有する事を特徴とする露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
