特許
J-GLOBAL ID：200903092424500965

ポジ型レジスト組成物

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

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青合 利明

青合 利明 について

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上西 一也

上西 一也 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-275334
公開番号（公開出願番号）：特開2000-187330
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：
【要約】【課題】 高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができ、しかも現像欠陥か改善されたポジ型電子線またはX線レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (a)電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物、(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂、および(c)フッ素系および/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型電子線またはX線レジスト組成物において、電子線またはX線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも1つのフッ素原子及び/又はフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であるポジ型電子線またはX線レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(a)電子線の照射により酸を発生する化合物(b)酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度を増大させる基を有する樹脂(c)フッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有するポジ型電子線レジスト組成物において、該(a)電子線の照射により酸を発生する化合物が少なくとも1つのフッ素原子及び/又は少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換されたベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、アントラセンスルホン酸を発生する化合物であることを特徴とするポジ型電子線レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (13件)
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