特許

J-GLOBAL ID：200903092433396860

多相DCプラズマ処理システム

発明者： ドゥルモンド,ジョフリー エヌ.
出願人/特許権者： アドバンスド エナジー インダストリーズ, インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-523750
公開番号（公開出願番号）：特表平11-505661
出願日： 1996年01月29日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：

【要約】多相スイッチモードプラズマ処理システムは、同時に整流されるか、さもなくばAC-DC(12)により変換される交流信号を発生する。結果として生じるDC信号では、リプルが大幅に減少しているので、発生されたDC出力をフィルタリングする必要性も大幅に低くなっている。反応する素子(4)を実質的に持たない結合を通して、DC出力を直接接続することも可能である。フィルタリング(4)が望ましい状況では、フィルタリング(4)は、1サイクル当たりに供給されるエネルギーの約1%にまで低減されうる。これによって、処理プラズマ(8)に対する電力供給のより正確な制御が可能になる。加えて、周波数の変化、共振、回路の変化およびパルス幅変調を通した電圧の調整は、個別にも利用されうるし、組み合わせても利用されうる。多数の交流信号の位相関係は、規則的な位相関係を実現することにより残存する少量のリプルを最小化できるように、決定されうる。

請求項（抜粋）：

DC処理プラズマに電力を与えることによって基板を精度よく処理する方法であって、 a.DC入力電圧を供給するステップと、 b.該DC入力電圧から多数の交流信号を発生するステップと、 c.該交流信号を単一のDC出力に変換するステップと、 d.該DC出力を該処理プラズマに印加するステップと、 e.該処理プラズマの作用を通して該基板を処理するステップと、を含む、DC処理プラズマに電力を与えることによって基板を精度よく処理する方法。

IPC (5件)：

H05H 1/24 ,  C23C 14/38 ,  C23C 14/54 ,  C23C 16/50 ,  H01J 37/32

FI (5件)：

H05H 1/24 ,  C23C 14/38 ,  C23C 14/54 B ,  C23C 16/50 ,  H01J 37/32