特許
J-GLOBAL ID：200903092439139630
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-283235
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142346
出願日： 1993年11月12日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】投影露光装置においてアライメント時にオフアクシス・アライメント系のフォーカス位置合せをスループットの低下を抑えて行う。【構成】投影光学系の光軸に平行な方向にウェハを位置決めする高さ調整手段と、投影光学系の投影視野内でウェハのフォーカス計測を行うフォーカス位置検出手段と、ウェハの傾斜量を測定する手段と、ウェハの傾斜量、アライメントマークの配置情報とウェハ上の任意の点のフォーカス位置に基づいてオフアクシス・アライメント系のフォーカス位置にマークを合せるための高さ調整手段の移動量を算出する演算手段を備えて、オフアクシス・アライメント系のフォーカス位置合せを可能にした。
請求項（抜粋）：
マスク上のパターンを感光性の基板上の指定された被露光領域に投影する投影光学系と、該投影光学系の光軸に垂直な面内で前記基板の位置決めを行う基板ステージと、前記投影光学系の投影視野から所定間隔だけ離して配設され、前記基板上の所定位置に形成された位置合わせ用のマークの位置を検出するマーク検出系とを有し、該検出されたマークの位置に基づいて前記基板ステージを移動させ前記基板上の被露光領域と前記マスクとの位置合わせを行う投影露光装置において、前記投影光学系の光軸に平行な方向に前記基板を位置決めする高さ調整手段と、 前記投影光学系の投影視野内において前記基板の前記投影光学系の光軸に平行な方向のフォーカス位置を計測するフォーカス位置検出手段と、前記投影光学系の光軸と垂直な面を基準として前記基板ステージ上に載置された基板の傾斜量を求める傾斜量測定手段と、前記マーク検出系によって前記マークを検出するように前記ステージを位置決めする際、予め前記フォーカス位置検出手段によって求められた前記基板上の任意の位置におけるフォーカス位置、前記傾斜量測定手段により求められた基板傾斜量、及び前記基板上のマークの配置情報に基づいて、前記マークと前記マーク検出系との間隔を所定の値にするのに必要な高さ調整手段の移動量を算出する演算手段とを備え、前記マーク検出系のマーク検出時のフォーカス合せを可能とした投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03B 27/53
, G03F 9/00
