特許
J-GLOBAL ID：200903092440624399
基板載置台およびその製造方法ならびに処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-393918
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313898
出願日： 2001年12月26日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：
【要約】【課題】 基板載置台の表面に付着物が蓄積することによって生じるエッチングむら等の処理むらを防止し、基板が基板載置台に吸着されてしまうこと等を防止する。【解決手段】 プラズマ処理装置1は、基板Gを収容するチャンバー2と、前記チャンバー2内に設けられ、基板Gが載置されるサセプタ4と、前記チャンバー2内に処理ガスを供給するシャワーヘッド11と、前記チャンバー2内に前記処理ガスのプラズマを生成するプラズマ生成手段25とを具備する。サセプタ4は、基材4a上に、誘電性材料膜6を形成し、その上に複数の開口を有する開口板66を介して溶射によりセラミックスからなる複数の凸部7を形成する。
請求項（抜粋）：
基材表面に誘電性材料膜を形成する工程と、前記誘電性材料膜の上に、複数の開口を有する開口板を載置し、前記開口板を介してセラミックスを溶射してセラミックスからなる複数の凸部を形成する工程とを含むことを特徴とする基板載置台の製造方法。
Fターム (11件)：
5F031CA05
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031HA10
, 5F031HA16
, 5F031MA28
, 5F031MA29
, 5F031MA32
, 5F031PA26
, 5F031PA30
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (10件)
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