露光方法およびフォトマスク

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-017976
公開番号（公開出願番号）：特開平5-216212
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】露光方法とマスクの構造に関し,近接するパターンに対してもデフォーカス光を重畳させるフレックス法を適用できるようにしてフォーカスマージンを増加させることを目的とする。【構成】 1)マスクパターンを基板上に露光する際,隣接する透過パターンの透過光の位相が異なるマスクを用いて露光するように構成する。2)隣接する透過パターンの一方に位相シフタが設けられているフォトマスク,3)前記位相シフタによる位相差がπであるフォトマスクを用いる。

請求項（抜粋）：

マスクパターンを基板上に露光する際,隣接する透過パターンの透過光の位相が異なるマスクを用いて露光することを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

G03F 1/14 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-141354
特開平3-177841
特開平3-191347

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