特許

J-GLOBAL ID：200903092444322079

ベーク装置

発明者： 金井 昭司 ,  田宮 洋一郎 ,  黒岩 慶造 ,  広田 信吉 ,  平松 賢二
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立東京エレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-179566
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029203
出願日： 1992年07月07日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：

【要約】【目的】 半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストの過ベークに起因するレジスト膜厚のばらつきや露光感度のばらつきを防止する。【構成】 ベークユニット1内の上部に設置されたヒータ2と、ベークユニット1内の下部に設置された冷却プレート3と、半導体ウエハ10を水平に支持した状態で上下動させる昇降ピン4と、上記ヒータ2と冷却プレート3との間に設置され、ベークユニット1内の密閉空間を上下に二分割する断熱シャッタ5とを備えたベーク装置である。ベーク処理が終了した半導体ウエハ10は、断熱シャッタ5によりヒータ2の熱とは遮断された雰囲気中で待機するので、待機時間の長短にかかわらず、フォトレジストの過ベークが防止される。

請求項（抜粋）：

半導体ウエハ上に塗布されたフォトレジストをベーク処理するベークユニットを備えたベーク装置であって、ベークユニット内の上部に設置され、半導体ウエハをその上方から非接触で加熱するヒータと、前記ベークユニット内の下部に設置され、前記半導体ウエハを冷却する冷却プレートと、前記ベークユニット内の半導体ウエハを水平に支持した状態で上下動させる昇降ピンと、前記ヒータと冷却プレートとの間に設置され、前記ベークユニット内の密閉空間を上下に二分割する断熱シャッタとを有することを特徴とするベーク装置。