特許
J-GLOBAL ID:200903092456855676

加熱調理装置の洗浄方法および該洗浄に使用される装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-567889
公開番号(公開出願番号):特表2002-523723
出願日: 1999年06月16日
公開日(公表日): 2002年07月30日
要約:
【要約】本発明は、少なくとも1個の噴霧ノズルが加熱調理室内に配置され、この加熱調理室内で回転運動のために駆動され、回転運動の回転点が加熱調理室内を巡回するように移動させられる、加熱調理室を有する加熱調理装置を洗浄する方法と、この方法を実施する装置に関する。
請求項(抜粋):
少なくとも1個の噴霧ノズルが加熱調理室内に配置され、この加熱調理室内で回転運動のために駆動される、加熱調理室を有する加熱調理装置を洗浄するための方法において、回転運動の回転点が加熱調理室内を巡回するように移動させられることを特徴とする方法。

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