特許
J-GLOBAL ID：200903092459057789

電子ビーム露光装置及び方法、ならびにデバイス製造方法

発明者：
村木 真人

村木 真人 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-212756
公開番号（公開出願番号）：特開2000-049071
出願日： 1998年07月28日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：
【要約】【課題】 ステージに対する電子ビームの位置変動の補正によるスループットの低下を低減する。【解決手段】 電子ビームに対する照射対象物の位置を検出する電子光学系によってステージ上に設けた第1の基準マークの位置を検出し、その際のステージの位置を測長系で検出することにより電子ビームに対するステージの位置関係を得るとともに、前記電子光学系により電子光学計設けた第2基準マークの位置を予め検出し、得られた前記電子ビームと前記ステージとの位置関係に基づいてステージと偏向手段と測長系を協働させて電子ビームで基板上に描画パターンを描画する。この際、再度前記電子光学系により前記第2基準マークの位置を検出し、検出された前記第2基準マークの位置と予め検出した前記第2基準マークの位置との差を求め、その差に基づいて、前記偏向手段と前記ステージの少なくとも一方によって、電子ビームとステージとの相対位置を補正する。
請求項（抜粋）：
電子ビームで基板上に描画パターンを描画する電子ビーム露光装置において、前記基板を載置して移動するステージと、前記ステージ上に固設された第1の基準マークと、前記電子ビームを偏向手段により前記基板上を走査させ描画パターンを描画するとともに、前記ステージ上の前記電子ビームの照射対象物に前記電子ビームを照射し、前記照射対象物の電子を検出し、前記電子ビームに対する照射対象物の位置を検出する電子光学系と、前記電子光学系に固設され、前記電子ビームの偏向領域に位置する第2の基準マークと、前記ステージの位置を検出する測長系と、前記電子光学系で前記第1の基準マークの位置を検出し、その際の前記ステージの位置を前記測長系で検出することにより前記電子ビームに対する前記ステージの位置関係を得るとともに、前記電子光学系により前記第2基準マークの位置を予め検出し、得られた前記電子ビームと前記ステージとの位置関係に基づいて前記ステージと前記偏向手段と前記測長系を協働させて前記電子ビームで前記基板上に描画パターンを描画する際、再度前記電子光学系により前記第2基準マークの位置を検出し、検出された前記第2基準マークの位置と予め検出した前記第2基準マークの位置との差を求め、その差に基づいて、前記偏向手段と前記ステージの少なくとも一方によって、前記電子ビームと前記ステージとの相対位置を補正させる制御手段とを有することを特徴とする電子ビーム露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305
FI (6件)：
H01L 21/30 541 D ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 K
Fターム (19件)：
2H097AB05 ,  2H097CA16 ,  2H097CA17 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA13 ,  2H097KA18 ,  2H097KA28 ,  2H097LA10 ,  5C033GG03 ,  5C033GG04 ,  5C033GG07 ,  5C034BB04 ,  5C034BB07 ,  5F056BA08 ,  5F056BD03 ,  5F056CB14 ,  5F056CB22 ,  5F056CC08
引用特許：
審査官引用 (10件)
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